<표> 삼성전자 국내외 반도체 사업장 및 연도별 시설투자

◇ 국내외 반도체 사업장 현황

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│ 국내 │ 해외 │
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│ 기흥사업장 │시스템LSI/LED 생│ 미국 │시스템LSI 생산 │
│ │산 라인 │ 오스틴 │라인 │
│ (1983년 착공) │ │ │ │
│ │면적: 약 43만평 │ (1996년 착공) │면적: 약 22만평 │
│ │ │ │ │
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│ 화성사업장 │메모리 반도체 │ 중국 │메모리 반도체 │
│ │생산라인 │ 시안 │생산 라인 │
│ (2000년 착공) │ │ │ │
│ │면적: 약 48만평 │ (2012년 착공) │면적: 약 42만평 │
│ │ │ │ │
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│ 온양사업장 │조립/검사 라인 │ 중국 │조립/검사 라인 │
│ │ │ 쑤저우 │ │
│ (1991년 착공) │면적: 약 13만평 │ │면적: 약 3만평 │
│ │ │ (1995년 착공) │ │
│ │ │ │ │
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│ 평택사업장 │메모리/시스템LSI│ 중국 │LED 생산라인 │
│ │생산라인 │ 텐진 │ │
│ (2015년 착공) │ │ │면적: 약 2만평 │
│ │면적: 약 85.5만 │ (2009년 착공) │ │
│ │평 │ │ │
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◇ 연도별 반도체 시설투자 이력

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│ 구분 │ 2010 │ 2011 │ 2012 │ 2013 │ 2014 │
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│금액(조원)│ 12.73 │ 13.03 │ 13.85 │ 12.6 │ 14.3 │
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(평택=연합뉴스)
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